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          鉬靶材

          [ 時間:2018-01-02 13:57:52 ]
          鉬靶材
          產品名稱:

          鉬靶材

          所屬分類:鉬靶材

          詳情介紹

          鉬靶材物理性質:
            密度:10.2克/立方厘米
            熔點:2610℃
            沸點:5560℃
            鉬靶材純度:99.9% ,99.99%
            規格:圓形靶,板靶,旋轉靶
            純度:純鉬≥99.95%,高溫鉬≥99%(添加稀土元素)

            鉬靶材供貨情況:
            供貨狀態:成品態
            包裝方式:木箱包裝
            工期:定制15天內交貨(庫存隨時發貨)
            發貨方式:快遞或物流(可協商)
            規格:根據客戶要求定制
            包裝方式:木箱包裝
            工期:定制15天內交貨(庫存隨時發貨)
            發貨方式:快遞或物流(可協商)
            運 費:供應商承擔。
            后期服務:保質期內如出現質量問題,供方承擔所有責任(正常使用范圍內)。

            鉬靶材的生產工藝流程:
            鉬坯(原材料)-檢驗-熱軋--堿洗-冷軋-校平-機械加工-檢驗-包裝

            鉬材料適用環境:真空環境或惰性氣體保護環境,純鉬較高耐高溫1200度,鉬合金較高耐高溫1700度。

            鉬材料的適用行業及用途:

          鉬材料主要用在真空高溫行業,電子行業,藍寶石熱場及航空航天制造行業等,鉬材料經過變形量達到60%以上的軋制加工后,鉬的密度基本上接近于理論密度,因此其具有高強度,內部組織均勻和優良的抗高溫蠕變性能,被廣泛應用于生產藍寶石晶體生長爐內的反射屏,蓋板真空爐內的反射屏,發熱帶,連接件,等離子鍍膜用的濺射靶材,耐高溫舟皿等制品。鉬靶材廣泛用于導電玻璃、STN/TN/TFT-LCD、光學玻璃、離子鍍膜等行業,適用所有平面鍍膜及旋轉鍍膜系統。


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